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      Wafer Charging Monitors, Inc. |
Charm®-2 晶圓 | ChargeMap® 軟體 | 應用程式套件
設備與處理評估服務 | 完整清單
服務
設備與處理評估服務
WCM 的評估服務包括為客戶提供 CHARM®-2 晶圓預處理、測試、資料分析以及總結報告(其中包括晶圓表面-基底電勢的晶圓平面圖、UV 劑量以及充電源的 J-V 特性)。我們還會向您展示如何使用它們來預測裝置損毀。
產品
CHARM®-2 晶圓充電監視器
可重複使用的 CHARM®-2 監視器晶圓使製造工程師可以在用等離子或離子束處理晶圓之前,先測量這兩種射束的充電特性。在產量下降時可以透過比較設備充電「指紋」,立即找出導致問題的設備。定期使用可重複使用的 CHARM®-2 晶圓,可以偵測設備漂移或最佳化處理過程,並預防耗費大量成本才能解決的問題出現。
ChargeMap® 軟體
用於現場分析 CHARM®-2 資料。在產品晶圓的產量嚴重降低的地方,第一次安裝 ChargeMap® 就可以透過 CHARM®-2 充電圖的空間關係,發現數種類型 IC 處理設備上的充電問題。
DamageMap 軟體 
DamageMap 已經推出!與表面電勢測量技術不同,
DamageMap 會產生一個充電電流(充電損害的真正原因)晶圓圖。直接將
DamageMap
圖與產品良率圖比較即可顯示出導致閘極氧化損害的特定製程設備。
CHARM®-2 應用程式套件
一個完整的套件,可以提供現場週轉時間和最佳的測量靈敏度。通常來說,只要第一次解決一個問題,就可以收回 CHARM®-2 晶圓與 ChargeMap® 軟體的成本。
完整清單
要獲得更詳盡的資訊,請參閱我們的產品與服務完整清單。